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中信证券研究 文|徐涛 王子源
美国商务部于2024年12月2日更新了半导体出口管制政策和实体清单,主要针对中国大陆半导体企业。本次制裁仍然是主要围绕先进制程的“小院高墙”式策略,意在卡住中国先进半导体发展进程,相关内容与此前媒体报道内容差别不大,市场已有所预期,由于相关企业已有提前准备,我们认为短期实际影响有限,长期而言则需放弃幻想,自立自强,有望进一步加速全产业链国产化进程。
▍美国更新出口管制规则并新增实体清单,瞄准中国大陆半导体领域。
2024年12月2日北京时间晚间,美国工业和安全局(BIS)发布了《出口管理条例(EAR)》的修订说明,修订半导体相关的出口管制规则,同时将 140个中国实体列入“实体清单”。核心内容包括但不限于:1)实体清单新增140家公司,并修改对部分企业(标注“脚注5” 的企业)供应含美技术外国产品的限制要求,以及从验证最终用户 (VEU) “白名单”计划中删除3家中国企业;2)针对高带宽内存(HBM)增加新的管制措施(增加新的3A090.c编码);3)扩展了部分半导体制造设备和相关物品的管制品类,适用于外国直接产品规则。
▍针对实体清单企业和白名单的更新主要包含三部分。
1)新增140家实体清单公司,主要为国产半导体制造、设备厂商,也涉及EDA、投资公司。本次新增实体清单的公司包括半导体设备厂商北方华创、拓荆科技、盛美上海、至纯科技、中科飞测、新凯来、凯世通、华峰测控、烁科中科信、华海清科、芯源微、北京屹唐、东方晶源、上海睿励等半导体设备厂商及部分子公司;半导体制造商青岛芯恩、昇维旭、鹏新旭、武汉新芯等;EDA厂商华大九天及其子公司;半导体材料厂商南大光电及其子公司、上海新昇(沪硅产业旗下)、珠海基石、至纯精密气体等;半导体海外并购相关的建广资产、智路资本、闻泰科技(维权)等。实体清单内企业在购买美国技术含量25%以上产品时受到限制。
2)对14家实体清单中的晶圆厂及研发中心增加了“脚注5”限制,更严格限制含美技术产品的采购。BIS针对14家已经被列入实体清单或新列入的晶圆厂和研发中心增加了“脚注5”,包括福建晋华、中芯北京、中芯国际、中芯北方、鹏芯微、ICRD、中芯南方、武汉新芯、青岛芯恩、中科院微电子所、上海集成电路装备材料产业创新中心、张江实验室、北方集成电路技术创新中心、中芯国际集成电路新技术研发公司等,BIS限制采用美国技术的公司(包括美系和非美系)向这些中国公司出口任何含有美国技术的产品。此外BIS对中芯国际的许可(金麒麟分析师)批准政策也做了修订。
3)3家半导体公司被移除VEU清单。BIS将三家中国半导体公司从VEU(授权验证最终用户)“白名单”清单移除,分别为中微公司、华虹半导体和华润微,VEU公司无需从 BIS 获得出口、再出口或转让(国内)许可证,现在被移除后,购买受管制的商品、软件和/或技术均需要通过BIS审查。
▍HBM和先进DRAM的限制加码,新增限制HBM的技术参数,主流HBM产品受管制。
1)新增HBM管制物项编码:针对HBM增加了3A090.c管制物项编码,存储带宽密度超过每平方毫米2GB/s即受到管制,BIS表示当前所有量产中的HBM均受限;3A090.c主要针对独立HBM,而对于HBM与逻辑合封的产品,则主要聚焦算力芯片部分,看TPP和性能密度是否受限(根据3A090.a/3A090.b);此外,对于美国或盟友企业在中国工厂封装等情形,设置了许可例外条件,当满足HBM内存带宽密度小于3.3GB/s/mm²等一系列条件时,可申请许可证例外授权,对产品去向仍有严格管控。
2)修改先进DRAM定义:在限制半导体设备时,将先进DRAM的技术标准从“18 纳米半间距或更小”修正为当 DRAM集成电路的存储单元面积小于0.0019μm²或存储密度大于 0.288Gbit/mm²时,该集成电路即符合 “先进节点集成电路 (Advanced-Node IC) ”,从而限制3D DRAM等技术,达到这一水平的国内DRAM存储厂采购含美技术设备需要许可证。
▍修订“商业管制清单CCL”,新增8类高端设备管制。
BIS在管制清单中新增8种品类(ECCN 3B001),后续此类设备的采购均需要许可要求或推定拒绝,主要包括:用于封装含硅通孔(TSV)芯片(如 HBM 芯片)的刻蚀设备;用于在先进集成电路的金属线之间沉积低介电材料的设备;用于先进存储器集成电路中低电阻率金属(钼和钌)的沉积设备;用于先进 DRAM中绝缘体沉积的设备;部分用先进节点钨沉积的物理沉积设备;能够用于先进节点集成电路生产的纳米压印光刻设备(套刻精度小于 1.5nm);用于先进制程的高端单片清洗设备(如超临界清洗);控制用于改善EUV光刻整体图形的沉积或刻蚀设备等。同时,7种商品从原 ECCN 3B001 移入新的 ECCN 3B993,不再需要许可要求或推定拒绝,原因是这些商品与制程节点无关,并已在非先进节点制造应用中得到广泛使用。
▍风险因素:
全球宏观经济低迷风险,下游需求不及预期,国际产业环境变化和贸易摩擦加剧风险,国产化推进不及预期,汇率大幅波动,美国制裁加剧,日荷等美国盟友收紧半导体政策等。
▍投资策略:
本次制裁内容与此前媒体报道内容差别不大,市场已有所预期,由于相关企业已有准备,已经提前进行了长期囤货和去美供应链切换,我们认为短期实际影响有限,对企业业务连续性不构成显著影响,长期而言则需放弃幻想,自立自强,有望进一步加速全产业链国产化进程。
1)半导体零部件企业国产替代进一步加速。制裁走向上游,建议关注零部件国产替代机会。
2)设备企业国产化趋势明确,当前最应关注具备先进制程、平台化、细分国产化率低的公司。
3)先进封装在AI芯片领域发挥作用增强,在2.5D/3D/HBM相关方向有持续技术迭代空间。建议关注国内布局先进封装的厂商。
4)晶圆厂作为半导体先进国产替代核心战略资产地位强化。
本文节选自中信证券研究部已于当日发布的《晨会》报告,具体分析内容(包括相关风险提示等)请详见报告。若因对报告的摘编而产生歧义,应以报告发布当日的完整内容为准。
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